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等离子清洗 射频清洗机 光刻胶清洗

产品简介

等离子清洗 射频清洗机 光刻胶清洗郑州科探属于13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备,主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。

产品型号:KT-S2DQX
更新时间:2023-11-27
厂商性质:生产厂家
访问量:1813
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品牌其他品牌产地类别国产
应用领域电子

一、产品应用原理:
(1)等离子清洗 射频清洗机 光刻胶清洗属于13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备,主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。  

(2)该清洗机内置不高纯石英仓体,容积为2升,结构为上的通用结构。采用了新型的外观结构设计和固态电源技术,使其有效容积增大,不同真空气体环境下容易匹配,且控制频率稳定。真空仓门有观察窗,可直观物体的处理过程,其射频电源与控制都组装在一个机箱内,即减少了空间的占用,更便于操作和放置,同时与大型清洗机相比较,从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作,特别适用科学实验样品清洗和教学。  

(3)KT-S2DQX型等离子清洗机电源属于150W13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备,主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。  

二、作用过程:
(1)该低温表面等离子清洗 射频清洗机 光刻胶清洗内置高纯石英仓体,容积为2升。采用了新型的外观结构设计和固态电源技术,使其有效容积增大,不同真空气体环境下容易匹配,且控制频率稳定。
(2)真空仓门有观察窗,可直观物体的处理过程,其射频电源与控制都组装在一个机箱内,即减少了空间的占用,更便于操作和放置,同时与大型清洗机相比较,从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作,特别适用科学实验样品清洗和教学。

供电电源

AC220VAC110V可选)

工作电流

整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)

射频电源功率

150W

射频频率

13.56MHz

频率偏移量

0.2MHz

特性阻抗

50欧姆,手动匹配

耦合方式

感应耦合式(线圈耦合)

真空度

≤100Pa

腔体材质

高纯石英

腔体容积

2L(内径110MMX深度220MM)

观察窗内径

Φ70

气体流量

10—600ml/min(其他量程可选)

过程控制

过程手动控制

清洗时间

手动开关

开盖方式

铰链侧开式法兰

外形尺寸

400x380x360mm

重量

23Kg

真空室温度

小于65°C

冷却方式

强制风冷

标配

KF16波纹管1米,kf16卡箍2个,电源线一根,说明书一本。


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