三氧化二铝磁控溅射仪KT-Z1650PVD为台式磁控溅射镀膜机在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜。仪器结构紧凑，全自动控制。利用直流磁控溅射和射频磁控溅射技术，进行某传感器基底Al2O3薄膜绝缘层的制备工艺及性能研究，对于指导薄膜传感器工艺设计及应用的快速发展，具有十分重要的理论意义及较好的工程应用价值。

小型离子溅射仪 郑州 科探KT-Z1650PVD在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。

小型溅射仪郑州科探KT-Z1650PVD，能够在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au），钯（Pd），铂（Pt）和金/钯（Au / Pd）的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，使样品适用于扫描电子显微镜（SEM）分析。仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学，所得结果一致，可重复性高。

小型离子溅射仪 郑州科探仪器 喷金仪 厂家供应通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜

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