小型溅射仪利用高能离子束轰击靶材料，使其原子或分子从靶材料上解离，并沉积在基板表面上，形成覆盖层。通过调节离子束的能量和强度，可以实现不同性质的薄膜制备。这种技术被广泛应用于材料表面的改性和制备高质量薄膜材料。主要用于制备薄膜材料，如金属薄膜、氧化物薄膜等。这些薄膜具有良好的准晶结构和化学性质，广泛应用于光电子、信息技术、磁学、材料科学等领域。
在选购小型溅射仪时，可以考虑以下几个因素：
1.薄膜材料种类：不同的型号适用于不同种类的薄膜材料，如金属薄膜、氧化物薄膜、半导体材料等。根据实际需求选择适合的仪器。
2.溅射靶材：溅射靶材是产生薄膜主体的关键因素，可以选择在市场上常见的金属、合金、化合物等靶材。还需要考虑到靶材的尺寸、形状以及纯度等因素。
3.溅射室尺寸：通常有不同尺寸的溅射室，选择时需要考虑所需薄膜尺寸和样品尺寸，确保仪器可以容纳并制备所需的薄膜。
4.溅射能源：可以根据不同需求使用直流(DC)或者射频(RF)溅射能源，选择时需要考虑使用的材料特性以及实验条件。
5.控制系统：控制系统应该易于操作和控制，具有可调节的溅射参数(如功率、流量等)，同时具备安全保护功能。
6.附加功能：一些可能配备真空系统、加热装置、旋转样品台等附加功能，根据实际需求选择是否需要这些辅助设备。
小型溅射仪的操作使用步骤：
1.将待溅射的样品固定在溅射靶上。
2.将溅射靶放入溅射室，关闭室门，并确保密封性良好。
3.打开溅射仪的电源开关。
4.选择所需的溅射材料和工艺参数，并设置在控制面板上。
5.打开气体供应系统，将惰性气体(如氩气)导入溅射室中，以确保稀薄的工作气氛。
6.打开真空泵，以抽取溅射室内的空气，创建真空环境。
7.观察真空计的示数，当达到所需的真空度后，可以开始溅射过程。
8.按下开始按钮，溅射过程开始。
9.完成溅射后，关闭溅射电源和气体供应系统。
10.打开室门，取出溅射靶，将样品取下。
更新时间：2023-10-25
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