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在选购小型溅射仪时,可以考虑以下几个因素

更新时间:2023-10-25点击次数:504
  小型溅射仪利用高能离子束轰击靶材料,使其原子或分子从靶材料上解离,并沉积在基板表面上,形成覆盖层。通过调节离子束的能量和强度,可以实现不同性质的薄膜制备。这种技术被广泛应用于材料表面的改性和制备高质量薄膜材料。主要用于制备薄膜材料,如金属薄膜、氧化物薄膜等。这些薄膜具有良好的准晶结构和化学性质,广泛应用于光电子、信息技术、磁学、材料科学等领域。
 
  在选购小型溅射仪时,可以考虑以下几个因素:
 
  1.薄膜材料种类:不同的型号适用于不同种类的薄膜材料,如金属薄膜、氧化物薄膜、半导体材料等。根据实际需求选择适合的仪器。
 
  2.溅射靶材:溅射靶材是产生薄膜主体的关键因素,可以选择在市场上常见的金属、合金、化合物等靶材。还需要考虑到靶材的尺寸、形状以及纯度等因素。
 
  3.溅射室尺寸:通常有不同尺寸的溅射室,选择时需要考虑所需薄膜尺寸和样品尺寸,确保仪器可以容纳并制备所需的薄膜。
 
  4.溅射能源:可以根据不同需求使用直流(DC)或者射频(RF)溅射能源,选择时需要考虑使用的材料特性以及实验条件。
 
  5.控制系统:控制系统应该易于操作和控制,具有可调节的溅射参数(如功率、流量等),同时具备安全保护功能。
 
  6.附加功能:一些可能配备真空系统、加热装置、旋转样品台等附加功能,根据实际需求选择是否需要这些辅助设备。
  小型溅射仪
  小型溅射仪的操作使用步骤:
 
  1.将待溅射的样品固定在溅射靶上。
 
  2.将溅射靶放入溅射室,关闭室门,并确保密封性良好。
 
  3.打开溅射仪的电源开关。
 
  4.选择所需的溅射材料和工艺参数,并设置在控制面板上。
 
  5.打开气体供应系统,将惰性气体(如氩气)导入溅射室中,以确保稀薄的工作气氛。
 
  6.打开真空泵,以抽取溅射室内的空气,创建真空环境。
 
  7.观察真空计的示数,当达到所需的真空度后,可以开始溅射过程。
 
  8.按下开始按钮,溅射过程开始。
 
  9.完成溅射后,关闭溅射电源和气体供应系统。
 
  10.打开室门,取出溅射靶,将样品取下。