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高纯度金靶材磁控溅射仪

简要描述:不同的蒸发速率下沉积300nm的Au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。高纯度金靶材磁控溅射仪KT-Z1650PVD在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学。

  • 产品型号:KT-Z1650CVD
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-04-27
  • 访  问  量:168
详细介绍
品牌郑科探溅射气体根据需求气体
样品台尺寸φ50mm控制方式触摸屏智能控制
样品仓尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材质金 铂 铜 银价格区间1-5万
产地类别国产应用领域化工,电子

高纯度金靶材磁控溅射仪

在不同的蒸发速率下沉积300nmAu薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。金薄膜方阻随着蒸发速率提高无明显变化,而方阻均匀性变差,但在可接受的范围内。但蒸发速率过高会引起金属大颗粒增多。因此,选用适合的蒸发速率对Au膜质量有很大影响。


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高纯度金靶材

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应用领域:

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

高纯度金靶材磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口





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