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高纯度金颗粒蒸镀仪

简要描述:高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD是我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发、金属粉末等。配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;触摸屏控制,操作简单,更有工艺储存等功能。采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm~-1μm之间。

  • 产品型号:KT-Z1650PVD
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-04-26
  • 访  问  量:32
详细介绍
品牌郑科探产地类别国产
应用领域化工,电子

高纯度金颗粒蒸镀仪

采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒"放电"的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度极高,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。

分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分.对比金膜表面黑色颗粒分布的密度;根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因;并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助.

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-热蒸发源:电阻式热蒸发舟,交流电源、坩埚蒸发;

-

腔体:不锈钢或石英腔体可供客户选择;

-

泵:前级干泵,分子泵;

- Load Lock

样品传输腔室:手动或自动传输,高真空,支持多种样品衬底(选配)

-

工艺控制:PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存;

-

衬底固定:单衬底固定,客户化衬底固定方式;


-       衬底夹具:加热,冷却,偏置,旋转等;

-       保护样品:配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;





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高纯度金颗粒蒸镀KT-Z1650CVD技术资料

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

加热方式

数字式功率调整器

镀膜功能

0-9995段可变换功率及挡板位和样品速度程序

最大功率

1200W

最大输出电压电流

电压≤12V  电流≤120A

真空度

机械泵 ≤5Pa5分钟)   分子泵≤10^-3Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm

样品台

可旋转φ62  (最大可安装φ50基底)

样品台转速

8/分钟

样品蒸发源调节距离

70-140mm

蒸发温度调节

1800

支持蒸发坩埚类型

钨丝蓝  带坩埚钨丝蓝  钨舟  碳绳  

预留真空接口

KF25抽气口  KF16真空计接口  KF16放气口 6mm卡套进气口

可选配扩展

机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa  

数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa

分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa




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