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产品简介
高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD是我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发、金属粉末等。配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；触摸屏控制，操作简单，更有工艺储存等功能。采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm～-1μm之间。
| 品牌 | 郑科探 | 产地类别 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,电子/电池 |
高纯度金颗粒蒸镀仪
采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm～-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒"放电"的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度*,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。
分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分.对比金膜表面黑色颗粒分布的密度;根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因;并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助.
-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源、坩埚蒸发；
-
腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；
-
泵：前级干泵，分子泵；
- Load Lock
样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬底(选配)；
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工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；
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衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；
- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；
- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；
高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 | 可旋转φ62 （最大可安装φ50基底） |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 | 70-140mm |
蒸发温度调节 | ≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 | 机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa） |
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