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小型离子溅射仪镀膜仪

简要描述:小型离子溅射仪镀膜仪一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

  • 产品型号:KT-Z1650PVD
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-04-29
  • 访  问  量:48
详细介绍
品牌郑科探溅射气体根据需求气体
样品台尺寸φ50mm控制方式触摸屏智能控制
样品仓尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材质金 铂 铜 银价格区间1-5万
产地类别国产应用领域化工,电子

小型离子溅射仪镀膜仪  

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

在磁控溅射中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产
生螺旋运动,其运动路径变长,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,使等离子体密度增大,从而磁控溅射速率得到很大的提高,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。同时,经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。

银靶材离子溅射仪KT-Z1650PVD镀膜客户反馈图:

637850126424153843761.jpg

小型离子溅射仪镀膜仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口


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