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  • 20243-12
    新产品发布-高压开关断路器灭弧实验装置

    郑州科探新产品发布-开断放电实验装置这款高压开关断路器灭弧实验装置采用不锈钢腔体设计,确保了设备的稳定性和耐用性。其最大允许压力达到了0.3MPa,同时能够承受高达50KV的最大电压,足以满足高压电路断开实验的需求。该实验装置具备可更换的电极设计,使得用户能够根据不同实验需求选择合适的电极,实现了对实验参数的灵活调整。此外,配备了电控推拉杆,可控的断开速度,使得实验过程更加精准和可控。推杆行程为140mm,为用户提供了更加多样化的实验选择。该装置还配备了前后透明窗口,方便用户...

  • 20241-25
    一英寸探针台重大升级

    一英寸探针台重大升级近期公司推出新品一英寸探针台,针对老产品持续优化1、滑块精度提高,控制更加精确,操作方便2、显微镜支架升级为一体,使用面包板,使得更加牢固,3、增加316球阀进气口,耐腐蚀,不漏气4、温度提高了pid参数,精度从±0.1升级到±0.5,更度更高,测试结果更加准确5、探针升级,绝缘优化,性能稳定,探针间不易发生短路,提高了PCB测试的可靠性

  • 202312-26
    半导体制冷台的工作过程可以分为四个主要阶段

    半导体制冷台的工作过程可以分为四个主要阶段:起始阶段、正向运行阶段、稳态工作阶段和反向运行阶段。在起始阶段,冷端的温度较高,热端的温度较低。然而,由于这两端之间的温度差异不足以产生足够的电压差,导致无法维持制冷效果。因此,此阶段需要其他制冷设备或方法进行预冷。在正向运行阶段,冷端的温度下降,热端的温度上升,电流流经热电堆,产生一定的制冷效果。温度差异逐渐加大。在稳态工作阶段,冷端达到了所需的温度,并且热端的温度也相应达到了一定的高温,设备可以长时间维持制冷状态。在反向运行阶段...

  • 202312-25
    新品发布!显微镜支架

    近期我司新推出了显微镜支架产品,设计简单、功能齐全,是一种降低成本的新型支架。平滑的水平移动非常适合大范围观察。作为机器或设备的光学设定规,显微镜可以从磁性固定位置水平滑动以进行观察。此外,一旦观看完毕,该装置可以轻松返回到原来的位置,不妨碍工作。定位销和限位器功能考虑了重复运动的再现性。这是一个方便使用的支架探针台显微镜支架是探针台的一部分,它支撑并固定显微镜,使显微镜能够进行精密操作。该支架有以下主要功能:稳定性:为显微镜提供稳定的支撑,确保在测试过程中显微镜不会发生移动...

  • 202312-8
    半导体制冷台是种基于热电效应的制冷设备

    半导体制冷台(也称为热电制冷台)是一种基于热电效应的制冷设备,它通过将电能转化为热能和冷能,实现制冷效果。当一个电流经过两个不同材料的接触面时,产生的热流量将会引起温度差异,从而产生热电效应。这被称为Seebeck效应。Seebeck效应的基本原理是,在两个不同材料交界处,电子会从能级较高的材料流向能级较低的材料,从而产生电压差。一般由三个主要部分组成:冷端、热端和电源。冷端由多个P型和N型的半导体材料连接而成,形成了一个热电堆。当电源连接到热电堆时,电流通过堆,通过Seeb...

  • 202311-7
    小型蒸镀仪的市场现状如下

    小型蒸镀仪在材料科学和工程领域中发挥着重要作用,广泛应用于微电子、光电子、材料科学等领域。热蒸发是一种将固态材料迅速加热并使其转变为蒸汽的过程。固态材料(如金属或非金属)被放置在加热源中,当加热源加热到一定温度时,该材料开始蒸发。蒸发的材料蒸汽在真空环境中自由扩散,并沉积到待镀物表面形成薄膜。小型蒸镀仪常见的应用领域:1.微电子工业:在微电子工业中用于制备集成电路、半导体芯片和显示器件等。通过在基板上沉积金属薄膜或半导体材料,可以实现电路的连接和器件性能的改善。2.光电子工业...

  • 202310-27
    新品发布!!1000度高温真空探针台!

    【新品发布】——突破极限,1000°高温探针台震撼上市!我们非常荣幸地宣布推出全新的1000°高温探针台。这款产品是我们经过不懈努力和持续创新的成果,将为您在高温实验领域带来了全新的体验。1000度高温真空探针台(High-TemperatureVacuumProbeStation)主要应用于半导体、材料科学、纳米技术、光电子、薄膜技术等领域,具有以下用途:1.半导体器件测试与表征:用于不同温度下的半导体料件、电子器件和光电子器件的性能测试和分析。2.材料性能表征:研究和测试...

  • 202310-9
    小型溅射仪是种常见的表面处理设备

    小型溅射仪是种常见的表面处理设备,其原理是利用高能离子束轰击固体材料,以改变其表面性质。主要由溅射靶、工作室、真空系统、控制系统等组成。其中关键的部分是溅射靶和工作室。溅射靶材料是由所需要改变其表面性质的物质组成,如金属、陶瓷等。工作室是一个真空环境,用于避免氧气、水蒸气等对溅射过程的干扰。在工作时,首先需要将工作室抽成高真空状态。通过真空泵抽取工作室内的气体,减少对离子束的干扰。接下来,将溅射靶放置在工作室内,并将需要处理的物体(如基板)放在靶的正对方向。然后,靶与工作室中...

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