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  • 20249-10
    半导体制冷台适用于特殊场合,如科研实验或特定工业过程

    半导体制冷台是一种利用半导体材料的热电效应实现制冷的设备,具有体积小、重量轻、无振动、无噪音等优点。它在许多领域得到了广泛的应用,如实验、生产、储存、环保节能等。随着半导体制冷技术的不断发展和完善,相信未来将在更多领域发挥更大的作用。1.选购半导体制冷台的指南-理解工作原理:了解半导体制冷片的基本工作原理,即当N型和P型半导体材料连结并接通直流电后,一端吸收热量成为冷端,另一端释放热量成为热端。-考虑用途需求:考虑您购买半导体制冷台的主要用途,如是否用于家用、商业还是特定的工...

  • 20249-3
    一起了解下半导体制冷台的主要组成部分

    半导体制冷台是一种利用半导体材料的热电效应实现制冷的设备。它主要由两种不同类型的半导体材料组成,这两种材料在电流的作用下会产生热量吸收和释放的现象,从而实现制冷效果。半导体制冷技术具有体积小、重量轻、无振动、无噪音等优点,因此在许多领域得到了广泛的应用。半导体制冷台的工作原理是基于热电效应,主要包括塞贝克效应、佩尔蒂效应和汤姆森效应。塞贝克效应是指当两种不同导体或半导体材料组成的回路在一个接头处加热,另一个接头处冷却时,回路中会产生电流;反之,如果回路中有电流通过,则一个接头...

  • 20248-12
    小型等离子去胶机的操作注意事项

    小型等离子去胶机作为半导体制程和光电子工业中的重要设备,其优势特点在于高效去胶、操作简便、适用广泛、环保安全等方面。它通过产生高能等离子体,对材料表面进行微观层面的处理,实现快速、高效且环保的去胶效果。-短时间内去除胶水或粘合剂:能够在相对较短的时间内对胶水或粘合剂进行高效去除,这大大提高了生产效率。-提高生产效率:通过高能等离子体反应,能够快速、高效地去除胶层,从而大大缩短了处理时间。-易于上手:设计简洁,操作方便,使得操作人员能够快速上手,降低了使用门槛。-维护简单:这类...

  • 20248-7
    小型等离子去胶机是现代微电子制造过程中不可少的设备之一

    小型等离子去胶机是现代微电子制造过程中不可少的设备之一,主要用于清除半导体晶片、液晶显示器、电子器件等表面的光刻胶及其他有机聚合物残留。1.基本原理-概述:主要利用氧气或其他气体在微波能量的作用下电离形成等离子体。这种等离子体富含高能活性粒子,这些粒子与光刻胶等有机物发生化学反应,将其转化为易挥发的简单无机化合物如水蒸气和二氧化碳,从而实现去除目的。-反应过程:工作气体(通常是氧气)被激发成等离子态,这些等离子体中的活性粒子与固体表面(如半导体晶片)上的有机聚合物接触,通过高...

  • 20247-10
    气体液体配比器的基础知识,一篇搞定

    气体液体配比器在激光切割和焊接领域,气体配比器用于提供特定比例的保护气体,以保护工件免受氧化,并帮助去除切割过程中产生的杂质;在化学实验中,液体配比器确保试剂按照准确的比例混合,这对于实验结果的准确性和重现性至关重要;在连续生产过程如食品加工、化工生产等领域,用以保证原料和添加剂的准确配比,确保产品的一致性和质量稳定性。气体液体配比器组成结构:-质量流量传感器:它是配比器的核心组件之一,用于准确测量流经的气体或液体的质量流量,保障配比精度。-热式原件:在气体配比中,热式原件通...

  • 20247-3
    气体液体配比器在工业生产和科研实验中非常重要

    气体液体配比器是用于将两种或多种气体/液体按一定比例混合的装置,以达到特定浓度或性能的混合物。在工业生产和科研实验中,准确的气体或液体混合比例对于保证产品质量和实验结果的准确性至关重要;主要利用质量流量传感器来测量气体的质量流量,通过热式原件和质量流量调节阀控制各自气体的流量,从而实现对不同气体流量效应的精密调控。液体配比则多采用体积或质量计量的方式,通过控制不同液体的比例实现混合;技术特性主要体现在其能够为激光切割、焊接等提供大流量的二元气体混合,且能确保混合气体的均匀性。...

  • 20246-29
    新品发布!1000度真空高温热台

    郑州科探仪器设新品发布!1000度真空高温热台。本电炉为桌面式高温加热台。用于少量样品功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末冶金,在高温条件下进行烧结处理,也可用于对样品高温真空环境的电信号测试。主要技术要求1:额定功率:≤1.2KW2:额定温度:1150℃,长期使用温度≤1000℃(钨丝加热需在小于10Pa的真空环境下加热)3:有效热台尺寸:55x55mm(台面加热)4:真空观察窗口:Φ70mm5:加热台材质:氧化铝6:加热器:碳化硅7:测温方式:S型热电偶...

  • 20246-11
    真空加热台内部压强可达到10的-5次方

    真空加热台是一种高精度的加热设备,广泛应用于实验室、半导体制造、光学器件制造等领域。它的主要功能是在高真空环境下对样品进行加热、退火、热处理等操作,以控制样品的结构。配备有高级别的真空腔体,其内部压强可达到10的-5次方,确保了加热过程在较高的真空度下进行,能有效避免样品在加热过程中受到外界气体的污染。真空加热台的维护保养方法:-确保加热台周围通风良好,避免有害气体积聚,这有助于防止火灾风险并保护使用者的健康。-加热台应放置在稳固的工作台面上,避免晃动或滑动造成事故。-尽量将...

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