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真空镀铜蒸镀仪

简要描述:真空镀铜蒸镀仪KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等。镀铜可打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-04-25
  • 访  问  量:203
详细介绍
品牌郑科探产地类别国产
应用领域化工,电子

郑科探小型蒸镀仪

-热蒸发源:电阻式热蒸发舟,交流电源;

-腔体:不锈钢或石英腔体可供客户选择;

-泵:前级干泵,分子泵;

工艺控制:PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存;-

衬底固定:单衬底固定,客户化衬底固定方式;

-       衬底夹具:加热,冷却,偏置,旋转等;

-       保护样品:配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;

1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。

2.镀镍:打底用或做外观,增进抗蚀能力及耐磨能力,(其中化学镍为现代工艺中耐磨能力超过镀铬)。

3.镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。

4.镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性高于金。

5.镀锡铅:增进焊接能力,快被其他替物取代(因含铅现大部分改为镀亮锡及雾锡)。铜颗粒

637864932965685742432.jpg铜颗粒

真空镀铜蒸镀仪KT-Z1650CVD镀样品

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真空镀铜蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

加热方式

数字式功率调整器

镀膜功能

0-9995段可变换功率及挡板位和样品速度程序

最大功率

1200W

最大输出电压电流

电压≤12V  电流≤120A

真空度

机械泵 ≤5Pa5分钟)   分子泵≤10^-3Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm

样品台

可旋转φ62  (最大可安装φ50基底)

样品台转速

8/分钟

样品蒸发源调节距离

70-140mm

蒸发温度调节

1800

支持蒸发坩埚类型

钨丝蓝  带坩埚钨丝蓝  钨舟  碳绳  

预留真空接口

KF25抽气口  KF16真空计接口  KF16放气口 6mm卡套进气口

可选配扩展

机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa  

数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa

分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa


技术支持&服务:

1. 技术支持:在合同签订之前,我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下,为客户做出*的选型和方案设计,使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等,以帮助客户做出正确的选择。

2. 安装与培训:在产品使用前,我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。

3. 产品质保:我们对产品提供12个月的质保期,在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。(耗材和易损件除外)

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