郑科探KT-Z1650CVD小型蒸镀仪介绍

KT-Z1650CVD 是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全。配备7寸触摸屏人工界面，具有电流时间工艺储存功能。配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及自动样品挡板开关功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金 属（金，银，铜，铬，镍等）和有机物进行均匀蒸发沉积。真空腔室为透明高鹏玻璃罩减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

主要技术要求

1：控制方式    7寸人机界面 手动模式 自动模式 晶控模式（需配膜厚仪）

2：镀膜方式    真空电阻加热式热蒸发镀膜

3：镀膜功能    0-999秒可变换功率 及挡板复位和样品旋转等程序控制

4：最大功率    ≤1200W（电压≤12V 电流≤150A)

5: 极限真空    机械泵 ≤1Pa（5分 钟）  分子泵≤5*10^-3Pa（30分钟）

6：挡板类型    电控

7：真空腔室    高鹏硅玻璃罩+铝合金腔体样品台Ф160mm×170mm

8：样品台    快速插拔式 可旋转φ75 （最大可安装φ70样品）

9：样品台转速    0-8转/分钟

10：样品靶材距离    40-70mm（可调节）

11:蒸发温度    ≤1800℃

12：蒸发坩埚类型    钨舟 陶瓷坩埚 石英坩埚 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 碳绳等

13：真空测量    电阻真空计（测量范围10E5Pa 1E-1Pa ）

14：预留真空腔室接口    KF40/KF25抽气口 KF16真空计接口Q15放气口 可扩展膜厚测量口

15：产品重量    约16KG

可选配扩展（选配）    ①机械真空泵抽速8mm3/h（单设备≤1Pa(5分钟）

②分子泵机组（单设备可抽真空30分钟≤5*10^-3Pa）

③膜厚仪:(厚度范围0-10000A 厚度显示分辨率1A 速率范围0-999.9A 速率显示分辨率0.1A 晶振频率6MHz）

主要配置要求    小型蒸镀仪 KT-Z1650CVD 主机1台 电源线 合格证 说明书 保修卡各一个