郑科探KT-Z1650PVD磁控溅射仪介绍

KT-Z1650PVD是一款溅射功率可调的小型磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。且可加装膜厚仪来实时监测镀膜厚度，通过设定电流及时间/厚度来调节溅射速率及薄膜沉积厚度，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明高鹏玻璃减少样品污染，腔体为铝合金一体成型来减少漏率，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，设备自带PID进气阀全程恒定调节镀膜真空。

主要技术要求

1：控制方式：7寸人机界面 自动模式 晶控模式（需配膜厚仪）切换

2：镀膜方式：真空直流磁控溅射镀膜

3：镀膜功能：0-999秒可变换功率 及挡板复位和样品旋转 自动进气等程序控制

4：最大功率：≤500W（电压≤1000V 电流≤500mA)

5: 极限真空：机械泵 ≤1Pa（5分 钟）  分子泵≤5*10^-3Pa（30分钟）

6：挡板类型：电控

7：镀膜靶材：直径Ф50mm 厚度0.2-2mm

8：镀膜真空：≤5Pa

9：溅射气体：高纯氩气（自动进气/关闭 PID调节设置的真空度）

10：真空腔室    ：高鹏硅玻璃罩+铝合金腔体样品台Ф160mm×170mm

11：样品台：快速插拔式 可旋转φ75 （最大可安装φ70样品）

12：样品台转速：0-8转/分钟

13：样品靶材距离：40-70mm（可调节）

14：真空测量    ：电阻真空（测量范围10E5Pa 1E-1Pa ）

15：预留真空腔室接口：KF40/KF25抽气口 KF16真空计接口Q15放气口 6mm快插进气口 可扩展膜厚测量口

16：产品重量    约17KG

可选配扩展（选配）    ①机械真空泵抽速8mm3/h（单设备≤1Pa(5分钟）

②分子泵机组（单设备可抽真空30分钟≤5*10^-3Pa）

③膜厚仪:(厚度范围0-10000A 厚度显示分辨率1A 速率范围0-999.9A 速率显示分辨率0.1A 晶振频率6MHz）

主要配置要求    小型溅射仪 KT-Z1650PVD 主机1台 电源线 合格证 说明书 保修卡各一个