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小型磁控溅射仪

产品简介

小型磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。

产品型号:KT-1650PVD
更新时间:2024-03-27
厂商性质:生产厂家
访问量:1119
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品牌郑科探应用领域电子
样品台?可旋转φ62?(可安装φ50基底)

    小型磁控溅射仪小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。

   小型磁控溅射仪 通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。


控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

极限真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口



















公司与国内高校,科研院所有多层次的合作关系,建有开放实验室,相关领域的教授、工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念,依靠严谨的技术研发能力,科学合理的生产工艺,精益求精的制造要求,全心全意做好产品质量和服务工作,科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。


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