单靶磁控溅射仪

        KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

    此款单靶磁控溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，设备配有微量充气阀调节工作真空，在 20Pa 真空保护。同时，配有进气口和微量充气调节装置，以方便空气或氩气等工作气体充入。

单靶磁控溅射仪  主要特点：

• 可制备多种薄膜，应用广泛 
• 体积小，操作简便 
• 真空腔室、真空泵组整机模块化设计 ，控制电源为分体式设计，可根据用户实际需要调整购买需求。 
• 可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪

磁控溅射头：

• 仪器中安装有3个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层
• 其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材
• 另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材 
• 可以单独订购RF连接线作为备用
• 设备包含一台水冷机，用于靶头冷却

载样台：

• 载样台可以旋转
• 载样台高可加热温度

真空腔体：

• 真空腔体：采用不锈钢制作 
• 观察窗口：
• 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易

薄膜测厚：

• 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装 在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å
• LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据