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单靶磁控溅射仪

产品时间:2020-04-17

简要描述:

此款单靶磁控溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,设备配有微量充气阀调节工作真空,在 20Pa 真空保护。同时,配有专用进气口和微量充气调节装置,以方便空气或氩气等工作气体充入。

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        KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。

    此款单靶磁控溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,设备配有微量充气阀调节工作真空,在 20Pa 真空保护。同时,配有专用进气口和微量充气调节装置,以方便空气或氩气等工作气体充入。

 

单靶磁控溅射仪  主要特点:

  • 可制备多种薄膜,应用广泛 
  • 体积小,操作简便 
  • 真空腔室、真空泵组整机模块化设计 ,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。 
  • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪

磁控溅射头:

  • 仪器中安装有3个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层
  • 其中一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
  • 另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材 
  • 可以单独订购RF连接线作为备用
  • 设备包含一台水冷机,用于靶头冷却

载样台:

  • 载样台可以旋转
  • 载样台高可加热温度

真空腔体:

  • 真空腔体:采用不锈钢制作 
  • 观察窗口:
  • 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

 

薄膜测厚:

  • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装 在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å
  • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

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