本产品为6英寸高低温热台，能够在高温400度和低温-120度的环境中工作。它是一种用于实验室、研究及工业生产过程中进行精确温度控制的设备，广泛应用于各类材料的热处理、热性能测试、化学反应、生物样品处理等方面。本产品具有温度范围广、控温精度高、操作简便及使用安全等特点，是实验室及工业领域非常理想的高低温热台设备。产品用途：1.材料热处理：广泛应用于金属、陶瓷、塑料、粉末、纳米材料等领域的热处理、退火、焊接和熔化等工艺过程。2.热性能测试：可用于材料的导热系数、热膨胀系数、比热容...

塞贝克系数（SeebeckCoefficient）也称为热电偶效应或Seebeck效应，是指两种不同导体（或半导体）材料在一定温差下产生热电动势的现象。塞贝克系数是研究热电材料（将热能转化为电能的材料）非常重要的一个参数，它用来衡量材料在一定温差下产生的热电压。塞贝克系数的测量方法有很多种，其中一种常用的方法是恒流法。首先准备一个热电偶，它由两种不同材料的导线组成。然后将热电偶的其中一个节点保持在恒定的高温T1，而另一个节点保持在低温T2（不同于T1），使热电偶产生热电动势（...

真空加热腔体是一种用于加热材料的装置，其原理是在真空环境下对材料进行加热，通过热传导的方式使其达到所需温度。与常压加热相比，真空加热可以减少氧化反应、避免污染、增加温度控制的精度等优点。由真空室、加热元件、温度控制器等组成。真空室内部的气体与外界隔绝，可以通过真空泵将其抽出，使腔内产生真空环境。加热元件一般由加热器、热交换器和传感器等部分组成，加热器主要是产生热量，热交换器用于将热能传递给腔体内的物质，传感器则用于监测温度。温度控制器根据传感器读数控制加热器的加热功率，以保持...

真空度显示：显示腔体内部的真空度数值运行程序段：分为3个步骤，绿色表示运行状态①真空泵启动②射频电源打开③放气进气流量显示：通过调节A、B流量调节阀调节气体进入腔体的大小，在两个图标显示，上部显示为A流量，下部显示为B流量时间：显示设备清洗时间功率:显示当前设备清洗是清洗功率设备温度：显示当前射频电源设备温度放气状态：显示当前放气阀开启或关闭状态清洗时间：点击可设置设备运行清洗时间清洗功率：点击可设置设备运行清洗功率开始运行：点击可切换设备开始运行或者停止运行参数设置：非专业...

1、氢氧机1500w需要独立插座2、配置溶液需要提前配置液体配置流程在通风良好处，带好防护措施手套口罩10升左右的纯水（蒸馏水或去离子水）。容器和搅拌棒需要塑料或者玻璃材质，然后将箱子里的三桶氢氧化钾缓慢的倒入水桶中，同时搅拌（液体会放出热量及刺激性气味，具有腐蚀性），搅拌至全部溶解为止。放置在通风处到常温状态设备加入容易之后可以前后推动摇晃一下以便在腔体内部均匀分布3、添加过滤溶液4、连接管道管道连接顺序出气口→管道→回火阀→火焰枪头火焰枪头一般选取最大号（出气口最大的）注...

小型溅射仪仪问仪答最近小伙伴对于溅射仪使用和技术参数问的问题比较多，今天总结一下溅射仪的一些常见的技术问题：1、膜厚检测仪原理：膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，利用频率测量技术加上*数学算法，进行膜厚的在线镀膜速率和实时厚度计算。主要应用于MBE、OLED或金属热蒸发、磁控溅射设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。2、溅射仪是否可以镀镍：可以镀镍但是镍是导磁金属所以需要靶材尽量薄0.5mm-1mm最好太厚磁场无法穿透溅射速率很低。3、直流溅射镀膜调节：1靶...

高低温真空探针台适用于各种场合下的材料表面处理实验和研究、包括晶体生长、化学气相沉积、材料蚀刻、物理蒸发、表面定量分析、测试小时过程等。它是一种非常有效的用于研究各种新型材料的技术工具，如半导体、涂层、金属、陶瓷、光学和纳米复合材料等领域，主要用于测试物品在高低温和真空环境下的性能表现。高低温真空探针台的使用方法：1.按照说明书所示步骤进行安装调试，并保证连接牢固、接口不漏气，以确保测试结果准确可靠。2.仪器启动后应根据需要和规定时间预热，然后在正式测试之前要对仪器进行调整，...

小型溅射仪的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表...