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  • 20248-23
    真空压力气氛控制方案

    科研实验、半导体制造、航空航天真空压力气氛控制方案针对用户提出的低气压试验箱中的真空度精密控制系统,以及1333Pa-133Pa/133Pa-0.133Pa的宽域真空度控制范围,本文基于动态平街法提出了切实可行的决方案。决方案采用了上游控制和下游控制两路独立高精度的PID程序控制回路,基于不同量程的高精度电容真空计,分别调节进气电动针阀和排气电动球阀,可实现各种低气压环境试验箱中高精度真空压力控制。此解决方案已在多个真空领域得到应用,并可以达到+1%的高精度控制。真空压力气氛...

  • 20248-20
    小型真空泵是现代工业中的重要设备

    小型真空泵是现代工业中的重要设备,用于产生、改善和维持真空环境,广泛应用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。了解其工作原理、类型、选购要点及应用范围,对于选择和使用该设备具有重要的参考价值。1.真空泵的定义和用途-概念定义:通俗来讲,真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。-主要用途:这类泵被广泛用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业,其主要工作目的是排出气体,获得真空环境。2.工作原理及分类-工作原理:根据一定的工作原理,真空泵可以分为机械、物理、化学方...

  • 20248-12
    气体质量流量计的安装注意事项

    气体质量流量计是用来测量气体流量的仪器,其准确性和稳定性对于工业过程控制和实验数据分析非常重要。正确安装气体质量流量计是确保其性能和精度的关键步骤。以下是一些关于气体质量流量计安装的注意事项:1.选择合适的安装位置:-选择震动最小、温度稳定且便于检查和维护的位置安装流量计。-避免将流量计安装在可能导致流程中断或维护困难的地方。2.遵守安装方向:-根据制造商的指导手册,确保流量计按照正确的方向安装。-有些流量计对安装角度有特定要求,必须严格遵守以防止测量误差。3.避免管道应力:...

  • 20248-9
    等离子清洗主要是清洗什么的?

    等离子清洗机,顾名思义,是通过等离子体来实现清洗的设备。那什么是等离子体呢。等离子体是一种高能带电的气体,可以通过加热气体或者施加高压电场等方式产生。因为等离子具有高能量和高活性,可以有效击穿器件表面的氧化物和有机物,使其腐蚀分解成气体或者被吸附走。以此来达到精密清洗的目的。等离子清洗机又分为真空等离子清洗机和大气等离子清洗机。大气等离子清洗机适用于体积较大的金属、塑料、陶瓷等。清洗速度较快,但其清洗效果和清洗范围受到气流喷射压力和角度的限制。占地较大设备较为昂贵。真空等离子...

  • 20247-26
    还不了解多功能手动探针台的优势特点?进来看

    多功能手动探针台是一种用于半导体芯片电参数测试的精密设备,能够为集成电路的电压、电流、电阻以及电容电压特性曲线等参数检测提供准确的测试平台。下面详细分析多功能手动探针台的优势特点:1、精准定位(1)微调装置:采用微调装置,可以实现精细的定位控制,确保测试过程中探针与芯片的准确对接。(2)传感器技术:结合传感器技术,能够实现亚微米级的定位精度,提高测试数据的准确度。2、操作灵活性(1)手动控制:相比自动探针台,该设备赋予操作者更多的控制自由度,便于根据实际需求进行个性化操作。(...

  • 20247-22
    使用多功能手动探针台前您所需要了解的相关知识点分享

    多功能手动探针台是一种用于半导体芯片电参数测试的精密设备,能够吸附多种规格的芯片,并提供多个可调测试针以及探针座。配合相应的测量仪器,它能够完成集成电路的电压、电流、电阻以及电容电压特性曲线等参数的检测。下面将深入探讨多功能手动探针台的相关知识点:1、工作原理(1)基础原理:其核心功能是实现对半导体芯片的电参数测试。通过精准定位的探针与芯片上的焊点接触,可以测量出芯片在各种工作状态下的电学性能。(2)电子隧道效应:在纳米级别的测量中,它可能会应用到扫描隧道显微镜技术,该技术基...

  • 20247-17
    如何延长真空探针台的使用寿命

    真空探针台是一种用于半导体器件测试的重要设备,其养护方式对于保证设备性能和延长使用寿命至关重要。以下是一些关于真空探针台养护方式的建议:1.清洁:真空探针台需要定期进行清洁,以去除灰尘和可能的污染物。清洁时,应使用温和的清洁剂和软布,避免使用可能刮伤设备的硬物。同时,清洁后应确保设备干燥,避免水分导致的锈蚀或短路。2.检查密封性:真空探针台的密封性对于保持真空环境至关重要。应定期检查设备的密封圈和阀门,确保它们没有磨损或损坏。如果发现密封性下降,应及时更换密封件。3.检查真空...

  • 20247-9
    蒸镀仪和溅射仪靶材选择

    关于小型溅射仪小型蒸镀产品知识要点直流磁控溅射仪溅射方式是调动靶材内磁场,使金属离子轰击到样品表面的镀膜方式。目前只能支持金属靶材。已经测试过的靶材有金、银、铜、铬、镍、铝、以及部分合金(镍铁合金)。以下是对一些特殊金属镀膜要求铝:镀铝推荐使用高真空分子泵。铬、镍:靶材厚度0.5mm左右。小型蒸镀仪是通过高温蒸发的方式镀膜。支持蒸镀金属和有机物。目前已测试的金属有金、银、铜、铬、镍、铝,有机物(石蜡)。蒸镀仪增加膜厚监测需要用到带有屏蔽温度的陶瓷坩埚(原因是高温会影响膜厚仪的...

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