郑科探小型溅射仪KT-Z1650PVD：实验室桌面级镀膜解决方案

在材料科学、半导体研究和扫描电镜（SEM）分析等领域，高质量薄膜制备是重要的环节。郑州科探仪器设备有限公司推出的KT-Z1650PVD小型磁控溅射仪，以桌面级紧凑设计集成了专业镀膜功能，为高校实验室和科研机构提供了一款高效、精准的镀膜设备，性价比高。

核心功能与应用场景

KT-Z1650PVD是一款溅射功率可控的桌面式磁控溅射仪，通过调动靶材内磁场使金属离子轰击到样品表面，实现薄膜沉积。其核心应用场景包括：

-扫描电镜（SEM）样品制备：能够在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au）、钯（Pd）、铂（Pt）及金/钯混合靶材等薄膜，短时间内形成细粒度均匀薄膜，有效消除样品荷电效应，提升SEM观测质量。

-金属电极制备：支持对大部分金属进行均匀物理沉积，可用于制作各种金属电极。

目前该设备已测试过的靶材包括金、银、铜、铬、镍、铝及部分合金（如镍铁合金），靶材常规厚度为2mm，不带磁性靶材可达5mm。

技术亮点深度解析

1. 智能化控制系统

设备配备7寸彩色触摸屏人机界面，支持手动/自动双模式切换，数据输入直观快捷，历史涂层信息可追溯显示。这一设计显著降低了操作门槛，即使镀膜经验不足的研究人员也能快速上手。

2. 精准镀膜控制

KT-Z1650PVD搭载直流溅射电源，输出电压≤1000V、电流≤1A。5段可变换功率程序（0-999秒可调），配合电动挡板功能，可分别设定预溅射和薄膜沉积参数，实现精准的厚度控制。

3. 真空系统

设备提供两种抽真空方案选择：

| 方案 | 极限真空度 | 抽气时间 |

| 机械泵 | ≤5Pa | 约5分钟 |

| 分子泵（选配） | ≤5×10⁻³Pa | 约30分钟 |

溅射工作真空维持在≤30Pa。设备采用PID自动进气阀，全程恒压调节镀膜真空，保证工艺稳定性。

4. 高均匀性镀膜保障

-透明石英玻璃腔体（φ160mm×170mm）：可视化镀膜过程，同时减少样品污染

-可旋转样品台（转速0-8转/分钟）：支持φ50mm基底安装，旋转镀膜确保薄膜均匀性

-靶材-样品距离可调（40-105mm）：灵活优化溅射速率与成膜质量

5. 扩展接口丰富

设备预留KF25抽气口、KF16放气口及6mm卡套进气口，可根据需求选配分子泵机组、膜厚仪（监测范围0-10000Å，分辨率1Å）等扩展模块，实现晶控模式下的厚度实时监测。

售后服务与支持

郑州科探仪器设备有限公司拥有7年以上真空与薄膜沉积技术经验，产品已通过经销商销往多所高校及研究中心并获得良好反馈。售后方面提供整机12个月质保、，并额外提供免费操作培训服务，帮助用户尽快掌握设备使用。

选购建议

KT-Z1650PVD适用于预算有限但对薄膜质量有较高要求的实验室场景。如需更高真空度（如镀铝、易氧化金属），建议选择分子泵配置；如需精准厚度控制，建议加装膜厚仪模块，是高校实验室桌面级镀膜需求的理想选择。

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