技术文章

Technical articles

当前位置:首页技术文章蒸镀仪和溅射仪靶材选择

蒸镀仪和溅射仪靶材选择

更新时间:2024-07-09点击次数:274

关于小型溅射仪 小型蒸镀产品知识要点

直流磁控溅射仪溅射方式是调动靶材内磁场,使金属离子轰击到样品表面的镀膜方式。目前只能支持金属靶材。已经测试过的靶材有金、银、铜、铬、镍、铝、以及部分合金(镍铁合金)。以下是对一些特殊金属镀膜要求

铝:镀铝推荐使用高真空分子泵。

铬、镍:靶材厚度 0. 5mm 左右。

小型蒸镀仪是通过高温蒸发的方式镀膜。支持蒸镀金属和有机物。目前已测试的金属有金、银、铜、铬、镍、铝,有机物(石蜡)。蒸镀仪增加膜厚监测需要用到带有屏蔽温度的陶瓷坩埚(原因是高温会影响膜厚仪的测试结果)。以下是对一些特殊金属镀膜要求。铝:镀铝需要用到陶瓷坩埚。是因为铝高温熔化时会渗透进钨舟,发生脆性相,钨舟容易断裂。

镍:'熔点较高(1453°),需要用镍丝缠绕钨棒进行蒸发。同样会渗透进钨棒内,使钨棒断裂

铬:熔点较高(1850左右°),需要用到铬钨棒进行蒸发镀膜。